Sulfonyloximy pro fotoresisty s vysokou citlivostí a tloušťkou určené pro expozici v oblasti i-čáry rtuti

To chci

Kompozice aktivovatelná světlem, jejíž podstata spočívá v tom, že obsahuje alespoň jednu sloučeninu, která může být zesíťována působením kyseliny nebo/a alespoň jednu sloučeninu, jejíž rozpustnost se mění působením kyseliny, a jako fotoiniciátor alespoň jednu sloučeninu generující kyselinu, zvláště sulfonovou kyselinu, při … celý popis

Uloženo v:

Podrobná bibliografie

Hlavní autor
Toshikage Asakura
Další autoři
Hartmut Bleier, Christoph De Leo, Jan Kubát, CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.
Typ dokumentu
Patenty a užitné vzory Přihlášky vynálezu
Fyzický popis
1 přihláška vynálezu
Vydáno
Praha : Úřad průmyslového vlastnictví, 2000
Témata
fotomechanická výroba dekorativně upravených nebo vzorovaných povrchů, např. pro tisk, pro výrobu polovodičových prvků ; materiály pro tento účel ; originály pro tento účel ; zařízení zvlášť upravená pro tento účel
přihlášky vynálezu
Popis jednotky
Číslo dokumentu: 1999-2912
Datum zveřejnění přihlášky: 15. 3. 2000
Datum přihlášení: 16. 8. 1999
Mezinárodní patentové třídění
G03F 7/004
G03F 7/039
G03G 5/026

Instituce:


Cíl Přístupnost Odkaz Zdroj odkazu
Web Dostupné Plný text Úřad průmyslového vlastnictví