Sulfonyloximy pro fotoresisty s vysokou citlivostí a tloušťkou určené pro expozici v oblasti i-čáry rtuti

Get it

Kompozice aktivovatelná světlem, jejíž podstata spočívá v tom, že obsahuje alespoň jednu sloučeninu, která může být zesíťována působením kyseliny nebo/a alespoň jednu sloučeninu, jejíž rozpustnost se mění působením kyseliny, a jako fotoiniciátor alespoň jednu sloučeninu generující kyselinu, zvláště sulfonovou kyselinu, při expozici světlem vlnové délky z rozmezí 240 až 390 nm a mající molární extinkční koeficient .epsilon. nižší než 365 nm. Tyto kompozice jsou obzvláště vhodné pro výrobu negativních a pozitivních fotoresistů, tiskových desek, materiálů pro záznam obrazu nebo barevných filtrů. … full description

Bibliographic Details

Main Author

Toshikage Asakura

Other Authors

Hartmut Bleier, Christoph De Leo, Jan Kubát, CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.

Document Type

Patents and utility models Patent applications

Physical Description

1 přihláška vynálezu

Published

Praha : Úřad průmyslového vlastnictví, 2000

Subjects

fotomechanická výroba dekorativně upravených nebo vzorovaných povrchů, např. pro tisk, pro výrobu polovodičových prvků ; materiály pro tento účel ; originály pro tento účel ; zařízení zvlášť upravená pro tento účel

přihlášky vynálezu

Item Description

Číslo dokumentu: 1999-2912
Datum zveřejnění přihlášky: 15. 3. 2000
Datum přihlášení: 16. 8. 1999

International Patent Classification

G03F 7/004
G03F 7/039
G03G 5/026